特許
J-GLOBAL ID:200903073249151699

アライメント方法及びそれを用いた投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-108631
公開番号(公開出願番号):特開平5-283315
出願日: 1992年03月31日
公開日(公表日): 1993年10月29日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 レチクルとウエハとの位置合わせをプリアライメント手段を利用して高精度に行うことのできるアライメント方法及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【構成】 原板2上のパターンを投影レンズ3により基板ステージ4に載置した被露光基板14に投影露光する際、該被露光基板を所定位置にプリアライメントするプリアライメントステーションと該被露光基板を該基板ステージに載置してアライメントする第2のアライメント手段と基準基板を該プリアライメントステーションでプリアライメントをし、次いで該基板ステージに載置して該第2のアライメント手段でアライメントを行い、このときのアライメント結果を該プリアライメントステーションにフィードバックして該プリアライメントの際のオフセットを自動的に設定する補正手段とを設けたこと。
請求項(抜粋):
被露光基板をプリアライメントステーションで所定位置にプリアライメントし、次いで該被露光基板を基板ステージに載置して第2のアライメント手段でアライメントをした後、原板に形成されているパターンを投影レンズにより該被露光基板に投影露光する際、基準基板を該プリアライメントステーションでプリアライメントをし、次いで該基板ステージに載置して該第2のアライメント手段でアライメントを行い、該アライメントの結果を該プリアライメントステーションにフィードバックをして該プリアライメントの際のオフセットを自動的に設定するようにしていることを特徴とするアライメント方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 9/00

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