特許
J-GLOBAL ID:200903073253755590
溶解炉内ガス流の冷却方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
香取 孝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-500179
公開番号(公開出願番号):特表2003-500631
出願日: 2000年05月12日
公開日(公表日): 2003年01月07日
要約:
【要約】本発明は、フラッシュ溶解炉などの溶解炉内のアップテークを通って排出されるガス流を微粒子状に分散された液体スプレーを用いて冷却することにより、ガス流中に含まれる固体粒子の凝着と焼結を防ぐ方法に関するものである。
請求項(抜粋):
溶解炉の排ガス流に乗って流れる微粉状固形物が該溶解炉の排ガス出口に焼結することを防止する方法において、排ガス流が溶解炉から排出される前に炉内で冷却することを特徴とする方法。
IPC (2件):
F27D 17/00 104
, F27B 3/10
FI (2件):
F27D 17/00 104 D
, F27B 3/10
Fターム (12件):
4K045AA00
, 4K045AA04
, 4K045BA03
, 4K045CA02
, 4K045RB00
, 4K056AA05
, 4K056BA02
, 4K056BB01
, 4K056CA04
, 4K056DB22
, 4K056DC00
, 4K056EA00
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