特許

J-GLOBAL ID：200903073253926212

シリカガラス粉粒体の製造方法

発明者： 上郡山 洋一 ,  森川 育太郎 ,  政氏 晴生 ,  樋口 一明
出願人/特許権者： 株式会社扶桑シルテック
代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-175463
公開番号（公開出願番号）：特開平10-001308
出願日： 1996年06月17日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 高純度のシリカガラス粉粒体を、高収率で、しかも操作性よく製造する方法を提供する。【解決手段】 分散状態で有機シリケートを加水分解してシリカ粉粒体ゲルを生成させ、次いで該シリカ粉粒体ゲルを分離し、焼成してシリカガラス粉粒体を製造する方法において、前記加水分解を、実質的に水と相溶しない有機溶媒であって、かつ有機シリケートの加水分解に伴って副生するアルコールの沸点より高い沸点を有する有機溶媒中で、前記アルコールの沸点以上かつ前記有機溶媒の沸点より下の温度で、該副生するアルコールを連続的に留出除去しながら行うことを特徴とする方法。

請求項（抜粋）：

分散状態で有機シリケートを加水分解してシリカ粉粒体ゲルを生成させ、次いで該シリカ粉粒体ゲルを分離し、焼成してシリカガラス粉粒体を製造する方法において、前記加水分解を、実質的に水と相溶しない有機溶媒であって、かつ有機シリケートの加水分解に伴って副生するアルコールの沸点より高い沸点を有する有機溶媒中で、前記アルコールの沸点以上かつ前記有機溶媒の沸点より下の温度で、該副生するアルコールを連続的に留出除去しながら行うことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C01B 33/18 ,  C01B 33/12 ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/14

FI (4件)：

C01B 33/18 Z ,  C01B 33/12 Z ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/14

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-291807