特許
J-GLOBAL ID：200903073265874056
高効率攪拌洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-383623
公開番号（公開出願番号）：特開2002-177753
出願日： 2000年12月18日
公開日（公表日）： 2002年06月25日
要約：
【要約】【課題】 被洗浄スラリー中の電子機能材料に対してソフトな条件で効率よく攪拌、洗浄を実施することが可能な高効率攪拌洗浄装置を提供する。【解決手段】 電子機能材料が水に分散された被洗浄スラリーが収容される洗浄槽と、前記洗浄槽1内に配置され、前記被洗浄スラリーを攪拌するための攪拌羽根11と、前記洗浄槽1内に前記攪拌羽根11の上方に位置するとともにその洗浄槽1内側面から離れた箇所に位置するように配置されたバッフル13と、前記バッフル13を昇降させるための昇降手段14とを具備し、前記バッフル13は前記攪拌羽根11による被洗浄スラリーの流れ方向に対して幅方向の面を下向きに傾斜した少なくとも2枚以上のパドル12がその長手方向を水平方向に延出して取り付けられていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
電子機能材料が水に分散された被洗浄スラリーが収容される洗浄槽と、前記洗浄槽内に配置され、前記被洗浄スラリーを攪拌するための攪拌羽根と、前記洗浄槽内に前記攪拌羽根の上方に位置するとともにその洗浄槽内側面から離れた箇所に位置するように配置されたバッフルと、前記バッフルを昇降させるための昇降手段と、を具備し、前記バッフルは、前記攪拌羽根による被洗浄スラリーの流れ方向に対して幅方向の面を下向きに傾斜した少なくとも2枚以上のパドルがその長手方向を水平方向に延出して取り付けられていることを特徴とする高効率攪拌洗浄装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01F 7/16 L
, B01F 7/18 B
4G078AA03
, 4G078AA04
, 4G078AB05
, 4G078BA05
, 4G078CA01
, 4G078CA08
, 4G078DA01
, 4G078EA20
