特許
J-GLOBAL ID:200903073283161822

研磨面観測装置及び研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細江 利昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-377418
公開番号(公開出願番号):特開2002-178257
出願日: 2000年12月12日
公開日(公表日): 2002年06月25日
要約:
【要約】【課題】 広い範囲で研磨対象物の研磨面の状態を光学的に観察できる研磨面観測装置を提供する。【解決手段】 垂直下方に照射された投受光器7からの照射光は、透明な研磨定盤3の中に入り、反射ミラー体10で90°向きを変えて水平方向に進んで反射ミラー体9で再び90°向きを変えて垂直下方に向かう。そして、研磨体4に設けられた透明窓を通してウェハ1の表面に照射される。ウェハ1からの反射光は、照射光と同じパスを逆にたどって投受光器7で受光される。このように、反射ミラーを使用することにより、観測点を従来では不可能であった研磨定盤の中央部とすることができ、広い範囲のウェハ1の表面状態を観察することができる。
請求項(抜粋):
研磨定盤に保持された研磨体と研磨対象物を接触させ、前記研磨定盤を回転させて、両者間の相対運動により前記研磨対象物を研磨する研磨装置において、前記研磨対象物表面の状態を光学的に観測する研磨面観測装置であって、投受光器と、前記研磨定盤中に設けられ、前記研磨体に設けられた透明窓と前記投受光器に対向する反射ミラーとを有してなり、前記投受光器により、前記反射ミラーと前記透明窓を介して前記研磨対象物の表面に垂直に光を照射すると共に、垂直反射光を受光して、前記研磨対象物の表面状態の光学的情報を検出する機能を有することを特徴とする研磨面観測装置。
IPC (2件):
B24B 49/12 ,  H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 49/12 ,  H01L 21/304 622 S
Fターム (5件):
3C034AA08 ,  3C034AA13 ,  3C034BB27 ,  3C034BB93 ,  3C034CA05

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