特許
J-GLOBAL ID:200903073292694426
真空蒸着装置及び方法並びに蒸着膜応用製品の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
曾我 道照
, 曾我 道治
, 池谷 豊
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 白石 泰三
, 武井 義一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-254750
公開番号(公開出願番号):特開2004-091858
出願日: 2002年08月30日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【課題】この発明は、水晶振動子を用いることなく蒸着速度を制御する真空蒸着装置及び方法を提供することを課題とする。【解決手段】コントローラ9から電気ヒータ6に電力が供給され、電気ヒータ6によってるつぼ2内の蒸着材4が加熱される。蒸着材4の周辺雰囲気の圧力が圧力センサ8によって測定され、コントローラ9は圧力センサ8から入力された圧力の測定値が予め設定されている設定値となるように、電気ヒータ6に供給する電力量を調整する。これにより、所定の蒸着速度が維持され、基板5の表面上に形成される蒸着膜の厚さが制御される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
真空容器内で蒸着材を蒸発させることにより基板の表面上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置において、
蒸着材の周辺雰囲気の圧力を測定する圧力センサと、
前記圧力センサで測定された圧力値に基づいて蒸着速度を制御するコントローラと
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029DB17
, 4K029EA01
, 4K029EA02
, 4K029EA03
引用特許:
審査官引用 (11件)
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特開昭58-167767
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特開昭52-010872
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特公昭56-042052
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