特許
J-GLOBAL ID：200903073296254170
反射防止性を有する耐擦傷性基材の製造方法、耐擦傷性基材及び偏光板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-314592
公開番号（公開出願番号）：特開平6-018704
出願日： 1992年11月25日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 硬化塗膜がハードで耐擦傷性があり、且つ光線透過率が良く、製造が簡単で、層間の密着性が良い反射防止塗膜を透明基材の表面に形成した耐擦傷性基材、その耐擦傷性基材を使用した偏光板及びその製造方法を提供する。【構成】 透明基板1の片面又は両面に電離放射線硬化型樹脂を含む樹脂組成物を塗工して下層塗膜2を形成する。この樹脂組成物には熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を含ませることができる。この塗膜を半硬化させ、その上に前記塗膜の屈折率よりも若干低い屈折率を持つ電離放射線硬化型樹脂を塗布して上層塗膜3を形成する。電離放射線を照射して両塗膜を同時に硬化させて、耐擦傷性基材を得る。この耐擦傷性基材には防湿層を設けることができる。この耐擦傷性基材を偏光素子にラミネートして偏光板を得る。
請求項（抜粋）：
(1)透明基板の片面又は両面に電離放射線硬化型樹脂を含む樹脂組成物を塗工して下層塗膜を形成し、(2)前記下層塗膜を半硬化させ、(3)半硬化された下層塗膜上に、下層塗膜の電離放射線硬化型樹脂組成物の屈折率よりも若干低い屈折率を持つ電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工して上層塗膜を形成し、(4)両塗膜上に電離放射線を照射することにより、上層塗膜及び下層塗膜を同時に硬化させることを特徴とする反射防止性を有する耐擦傷性基材の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 1/10
, C08J 7/04
, G02B 5/30
