特許

J-GLOBAL ID：200903073301903670

超純水製造方法

発明者： 知野 秀一 ,  中村 穰 ,  木暮 雅彦
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-004280
公開番号（公開出願番号）：特開平9-192657
出願日： 1996年01月12日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【課題】超純水の生産水量の減少をほぼ防止し、安定した超純水の供給を達成した超純水製造方法を提供すること。【解決手段】一次純水に180〜190nmの波長を有する第1の紫外線を照射する工程と、前記第1の紫外線が照射された一次純水に190nmを越える波長からなる第2の紫外線を照射する工程とを順に行うことを特徴とする超純水製造方法および一次純水に180〜190nmの波長を有する第1の紫外線を照射する工程と、前記第1の紫外線が照射された一次純水に190nmを越える波長からなる第2の紫外線を照射する工程と、前記第2の紫外線が照射された一次純水からイオン成分を除去する工程と、前記イオン成分が除去された一次純水を限外濾過により濾過する工程とを順に行うことを特徴とする超純水製造方法による。

請求項（抜粋）：

一次純水に180〜190nmの波長を有する第1の紫外線を照射する工程と、前記第1の紫外線が照射された一次純水に190nmを越える波長からなる第2の紫外線を照射する工程とを順に行うことを特徴とする超純水製造方法。

IPC (4件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44

FI (4件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 H ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/44 J