特許

J-GLOBAL ID：200903073305531823

洗浄装置

発明者： 西 光雄 ,  本田 儀幸 ,  黒田 幸輝 ,  向井 榮一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249252
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326476
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 装置の駆動部等から発生した塵埃や、ウエハキャリア等の基板搬送用治具に付着していた塵埃や汚染物が半導体ウエハ等の被洗浄基板に付着し、被洗浄基板が汚染される可能性を従来に較べて大幅に低減することができ、良好な洗浄処理を行うことのできる洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄装置1は、処理液を貯溜する複数の処理槽7と、ローダー部5に設けられたウエハキャリア9内から半導体ウエハを取り出し、搬送して処理槽7内の処理液に浸漬する搬送機構8と、半導体ウエハを取り出されたウエハキャリア9を搬送しつつ洗浄するキャリア搬送機構10とを具備している。

請求項（抜粋）：

処理液を貯溜する複数の処理槽と、所定のロード部に設けられた基板搬送用治具内から被洗浄基板を取り出し、該被洗浄基板を搬送して前記処理槽内の処理液に浸漬する基板搬送機構と、前記被洗浄基板を取り出された前記基板搬送用治具を洗浄する機構とを具備したことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭52-139378
  
• 特開昭61-169412