特許
J-GLOBAL ID:200903073309025027
有害有機塩素系化合物の分解処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
猪股 祥晃
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-109689
公開番号(公開出願番号):特開平7-313619
出願日: 1994年05月24日
公開日(公表日): 1995年12月05日
要約:
【要約】【目的】有害有機塩素化合物(PCB)を一切系外に排出しないで、また有害化合物を副生させることなく無害物質に分解させる。【構成】PCBとIPAとNaOHを混合し光分解処理を行う。光分解処理を行った分解液中に含まれているIPAを分離回収し、残渣に塩酸を加えて中和し、無機塩を除去する。残存するビフェニルとPCBを再度光分解工程へ戻してPCBを分解させる。蒸留または膜分離法でIPAを分離し、水に対する溶解度の差を利用して無機塩を除去する。さらに蒸留,再結晶、ゾーンメルティング法などを用いることで、分解生成物を痕跡量(ppbオーダ以下)まで低下させることができ、系外に事実上排出しないようにできる。
請求項(抜粋):
ポリ塩化ビフェニル(PCB)等の有害有機塩素系化合物を化学的に非塩素系化合物に変えて無害化する分解・脱塩素化処理する工程と、この分解・脱塩素化処理工程後も未分解で残存している有害有機塩素系化合物を無害の分解生成非塩素系化合物から分離する分離工程と、この分離した未分解残存有害有機塩素系化合物を再び前記分解・脱塩素化処理する工程に戻して分解させる再分解・脱塩素化処理工程とを有することを特徴とする有害有機塩素系化合物の分解処理方法。
IPC (4件):
A62D 3/00 ZAB
, B01J 19/12 ZAB
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00
FI (2件):
B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 304 Z
引用特許:
審査官引用 (5件)
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フロン物質の連続分解分離方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-137311
出願人:東京電力株式会社
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特開昭5-192421
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特開昭49-109351
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特開昭63-046178
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特開平4-112842
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