特許

J-GLOBAL ID：200903073315328686

レジスト膜のアッシング装置

発明者： 鈴木 信二 ,  関 匡平 ,  荒井 徹治
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027464
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198498
出願日： 1992年01月20日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 オゾンの有効利用を図るとともに、活性化酸素とレジスト膜との接触効率を高めて、アッシング処理を迅速に行うことができるレジスト膜のアッシング装置を提供することにある。【構成】 処理室と、処理室内にオゾンを導入するオゾン導入手段と、処理室内において、ウエハを載置して保持するウエハ保持台と、ウエハ上のレジスト膜に紫外線を照射する紫外線ランプとを具えてなるレジスト膜のアッシング装置において、前記ウエハ保持台と前記紫外線ランプとの間には、当該紫外線ランプからの放射光のうち253.7nm付近の波長光を減衰させるフィルター部材が設けられていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

処理室と、処理室内にオゾンを導入するオゾン導入手段と、処理室内において、ウエハを載置して保持するウエハ保持台と、ウエハ上のレジスト膜に紫外線を照射する紫外線ランプとを具えてなるレジスト膜のアッシング装置において、前記ウエハ保持台と前記紫外線ランプとの間には、当該紫外線ランプからの放射光のうち253.7nm付近の波長光を減衰させるフィルター部材が設けられていることを特徴とするレジスト膜のアッシング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341