ディストリビュータ洗浄方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-097224
公開番号（公開出願番号）：特開2002-282608
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：

【要約】【課題】ディストリビュータ洗浄後における処理済み液の水質悪化を防止することができるディストリビュータ洗浄方法及び装置を提供すること。【解決手段】本発明によるディストリビュータ洗浄方法は、被処理液中の懸濁物質や凝集フロック等を沈降分離させる沈殿槽12と、沈殿槽内に直立状態で配設されており、被処理液が導入されるチャンバ14と、このチャンバ内の被処理液を沈殿槽内に分配供給するディストリビュータ30とを有する凝集沈殿装置10において、凝集沈殿装置から流出される処理済み液を洗浄液として用いてディストリビュータを洗浄することを特徴とする。この方法では、洗浄液として用いられる処理済み液の塩分濃度が被処理液の塩分濃度と実質的に等しいことから、塩分濃度差に起因する無用な対流を防止し、処理済み液の水質悪化を防止することができる。

請求項（抜粋）：

被処理液中の懸濁物質や凝集フロック等を沈降分離させる沈殿槽と、前記沈殿槽内に直立状態で配設されており、被処理液が導入されるチャンバと、前記チャンバ内の被処理液を前記沈殿槽内に分配供給するディストリビュータとを有する凝集沈殿装置において、前記凝集沈殿装置から流出される処理済み液を洗浄液として前記ディストリビュータを洗浄することを特徴とするディストリビュータ洗浄方法。

IPC (4件)：

B01D 21/24 , B01D 21/01 ZAB , B01D 21/02 , B01D 21/06

FI (5件)：

B01D 21/24 D , B01D 21/24 Z , B01D 21/01 ZAB A , B01D 21/02 N , B01D 21/06 A

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