特許
J-GLOBAL ID：200903073334317237

殺菌脱臭ガス供給方法及び供給装置

発明者：
青柳 耕平

青柳 耕平 について


出願人/特許権者：
株式会社サンシ-ル

株式会社サンシ-ル について


代理人 (1件)： 川浪 薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-005566
公開番号（公開出願番号）：特開2000-202009
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：
【要約】【課題】 高い殺菌、脱臭効果を有する二酸化塩素ガスを、紫外線の化学反応促進効果を利用することにより簡易かつ安全に供給し得る方法及び装置を提供すること。【解決手段】 ゲル状または液状薬剤に対して紫外線を照射することにより殺菌脱臭性ガスを供給する方法、並びに殺菌性、滅菌性、消毒性、防腐性、防菌性、殺虫性、防虫性、脱臭性、消臭性を有する薬剤であって、ゲル状または液状の薬剤を収納する薬剤容器と、前記薬剤容器内のゲル状または液状薬剤に対して紫外線を照射し、蒸散ガスを発生させるための紫外線照射手段と、前記薬剤容器から前記紫外線照射手段によって蒸散せしめられるガス成分を取り出すためのガス吐出部と、を備えた殺菌脱臭ガス供給装置。
請求項（抜粋）：
ゲル状または液状の安定化二酸化塩素に対して紫外線を照射することにより殺菌脱臭性ガスを供給することを特徴とする殺菌脱臭ガス供給方法。
IPC (2件)：
A61L 2/20 ,  A61L 9/015
FI (2件)：
A61L 2/20 A ,  A61L 9/015
Fターム (39件)：
4C058AA03 ,  4C058AA05 ,  4C058AA08 ,  4C058AA23 ,  4C058AA24 ,  4C058AA27 ,  4C058BB06 ,  4C058BB07 ,  4C058CC01 ,  4C058CC03 ,  4C058CC08 ,  4C058DD13 ,  4C058EE12 ,  4C058EE13 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ22 ,  4C058JJ28 ,  4C058JJ29 ,  4C058JJ30 ,  4C058KK02 ,  4C080AA03 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080BB04 ,  4C080BB05 ,  4C080BB06 ,  4C080BB07 ,  4C080BB08 ,  4C080BB09 ,  4C080HH03 ,  4C080HH06 ,  4C080KK03 ,  4C080KK06 ,  4C080KK08 ,  4C080LL06 ,  4C080LL07 ,  4C080MM09 ,  4C080QQ11 ,  4C080QQ20
引用特許：
審査官引用 (20件)
  • 特開平4-300201
  • 特開昭63-294861
  • 殺菌脱臭乾燥用ガス供給装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-052608   出願人：藤田佐内
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