特許

J-GLOBAL ID：200903073338497248

メンテナンスシステム、メンテナンス方法、露光装置、デバイスの製造方法

発明者： 山口 敦史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-309832
公開番号（公開出願番号）：特開2007-123335
出願日： 2005年10月25日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：

【課題】基板の支持面に対して清掃等のメンテナンス処理を円滑に行えるメンテナンス装置を提供する。 【解決手段】メンテナンスシステムは、物体を支持する支持面のメンテナンス処理を行う処理部72,95と、処理部72,95の作動に必要な電力を供給する電力受給部80とを有し、支持面に対して着脱可能なメンテナンス装置CLと、電力受給部80に非接触で電力を供給する電力供給部と、を備える。 【選択図】図3

請求項（抜粋）：

物体を支持する支持面のメンテナンス処理を行う処理部と、前記処理部の作動に必要な電力を供給する電力受給部とを有し、前記支持面に対して着脱可能なメンテナンス装置と、 前記電力受給部に非接触で電力を供給する電力供給部と、 を備えることを特徴とするメンテナンスシステム。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/67

FI (4件)：

H01L21/304 622G ,  H01L21/30 502Z ,  H01L21/30 503G ,  H01L21/68 Z

Fターム (18件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA05 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA02 ,  5F031GA35 ,  5F031GA36 ,  5F031GA43 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031JA01 ,  5F031MA23 ,  5F031MA27 ,  5F031PA24 ,  5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-230069   出願人：株式会社ニコン