特許
J-GLOBAL ID：200903073346345546
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-088782
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297155
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 基板処理効率を高め、短時間に基板を洗浄する。【構成】 基板処理装置は、基板収納部から取り出された基板に処理液を供給して第1処理を行う第1基板処理部と、基板収納部から基板を取り出して、第1基板処理部に搬送する第1基板搬送部と、第1基板処理部に設けられ、基板周縁に当接して基板を保持する複数のローラを有する基板保持手段とを備える。
請求項（抜粋）：
円盤状の基板に対して処理を行う基板処理装置であって、前記基板の周縁に当接する複数のローラを有し、前記基板を回転可能状態で把持する把持部と、前記把持部によって把持された基板に対して処理を施す処理部と、を備えた基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 1/04
, H01L 21/68
