特許
J-GLOBAL ID:200903073347485953
ガス供給装置と成膜装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鵜沼 辰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-342922
公開番号(公開出願番号):特開2000-172343
出願日: 1998年12月02日
公開日(公表日): 2000年06月23日
要約:
【要約】【課題】 ガス供給流路を構成する要素間の領域を信号伝送系の領域に用いて占有スペースを小さくすること。【解決手段】 ベース10上にマニホールドブロック12〜20を分散して配置し、各マニホールドブロック上にフィルタ34、オペレートバルブ36、40、MFC38を固定する。MFC38、マニホールドブロック16、18およびベース10で囲まれた領域内にコネクタ46、56、電源・信号伝送部48を配置し、電源ユニットからの電源および信号を電源・信号伝送部48、コネクタ56、コネクタ46を介してMFC38に供給する。
請求項(抜粋):
互いに離れて配置されてガス供給流路の一要素を構成するブロック群と、前記ブロック群のうち複数のブロックと相隣接して配置されて前記ガス供給流路の一要素を構成するとともに電力・信号の供給を受けてガスの流れを制御するガス制御手段と、前記ガス制御手段に電力・信号を伝送する信号伝送手段とを備え、前記ガス制御手段は、前記相隣接するブロックとブロックとを結ぶ線と交差する方向において前記相隣接する複数のブロックとそれぞれ一部の領域を重複させた状態で接合され、かつ前記各一部の領域を介して前記相隣接する複数のブロックのガス供給流路にそれぞれ接続されており、前記信号伝送手段は、前記各一部の領域に隣接した領域のうち前記相隣接するブロックとブロックとの間の領域に配置されてなるガス供給装置。
IPC (4件):
G05D 7/06
, B01J 4/00 102
, B01J 19/08
, H01L 21/285
FI (4件):
G05D 7/06 B
, B01J 4/00 102
, B01J 19/08 H
, H01L 21/285 C
Fターム (29件):
4G068AB02
, 4G068AC05
, 4G068DA04
, 4G068DB01
, 4G068DB23
, 4G068DC04
, 4G068DD05
, 4G068DD11
, 4G068DD15
, 4G075AA24
, 4G075AA61
, 4G075BB02
, 4G075BC04
, 4G075BD14
, 4G075CA48
, 4G075EB43
, 4M104DD44
, 5H307AA20
, 5H307BB01
, 5H307CC01
, 5H307DD11
, 5H307EE02
, 5H307ES02
, 5H307FF06
, 5H307FF08
, 5H307GG08
, 5H307GG11
, 5H307GG15
, 5H307HH04
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