特許
J-GLOBAL ID:200903073357522342

一軸配向高分子薄膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西脇 民雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-096613
公開番号(公開出願番号):特開2005-283902
出願日: 2004年03月29日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】高配向、かつ、高平坦な一軸配向高分子薄膜を提供すること。また、本発明の別の課題は、上記の一軸配向高分子薄膜を高収率で且つ容易に製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明の一軸配向高分子薄膜は、厚さ1nm以上2000nm以下の範囲内であり、該薄膜を構成する高分子の分子軸方向の配向度が0.97以上で一軸方向に配向され、該薄膜の表面粗さ(Ra)が3.0nm以下、且つ薄膜占有率が90%以上であることを特徴とする。このような一軸配向高分子薄膜は、例えば、表面粗さ(Ra)が1.5nm以下である支持体の表面に高分子成型体を摩擦することにより支持体に支持された状態で得られる。このような薄膜を高収率で且つ容易に製造するには、クリーンな環境下で作成することが望ましい。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
厚さ1nm以上2000nm以下の範囲内であり、該薄膜を構成する高分子の分子軸方向の配向度が0.97以上で一軸方向に配向され、該薄膜の表面粗さ(Ra)が3.0nm以下、且つ薄膜占有率が90%以上である一軸配向高分子薄膜。
IPC (3件):
G02B5/30 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14
FI (3件):
G02B5/30 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A
Fターム (19件):
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB44 ,  2H049BC04 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08 ,  2H091FA11 ,  2H091FB02 ,  2H091FC01 ,  2H091FC14 ,  2H091FD02 ,  2H091FD06 ,  2H091GA06 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  3K007BB00 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03
引用特許:
出願人引用 (4件)
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