特許

J-GLOBAL ID：200903073364721792

多孔質構造体の製造方法、及び該製造方法から得られる多孔質構造体

発明者： 山田 悠介
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
代理人 (2件)： 川和 高穂 ,  中 敦士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-191742
公開番号（公開出願番号）：特開2007-046042
出願日： 2006年07月12日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】逆ミセルの鋳型を利用して、有機ポリマーと両親媒性物質からなる多孔質構造体を形成する。【解決手段】(i)両親媒性物質、疎水性を有する有機ポリマー、親水性液体及び該有機ポリマーを溶解する疎水性有機溶媒からなる溶液を混合撹拌して、逆ミセルが形成された疎水性有機溶媒溶液を得る工程(工程1)、(ii)疎水性有機溶媒溶液を基板上にキャストする工程(工程2)、及び(iii)基板上の疎水性有機溶媒溶液から、疎水性有機溶媒と親水性液体を蒸発させて多孔質の構造体を形成する工程(工程3)、を含む、疎水性有機溶媒溶液中に形成された逆ミセルの鋳型を孔の形成に利用する多孔質構造体の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記(i)ないし(iii)に記載する工程を含む、疎水性有機溶媒溶液中に形成された逆ミセルの鋳型を孔の形成に利用する多孔質構造体の製造方法。 (i)少なくとも両親媒性物質、疎水性を有する有機ポリマー、親水性液体及び該有機ポリマーを溶解する疎水性有機溶媒からなる溶液を撹拌して、逆ミセルが形成された疎水性有機溶媒溶液を得る工程(工程1) (ii)前記疎水性有機溶媒溶液を基板上にキャストする工程(工程2) (iii)前記基板上の疎水性有機溶媒溶液から、疎水性有機溶媒と親水性液体を蒸発させて多孔質の構造体を形成する工程(工程3)

IPC (2件)：

C08J 9/28 ,  G02B 5/18

FI (3件)：

C08J9/28 102 ,  C08J9/28 ,  G02B5/18

Fターム (32件)：

2H049AA02 ,  2H049AA31 ,  2H049AA41 ,  2H049AA55 ,  4F074AA16 ,  4F074AA17 ,  4F074AA24 ,  4F074AA26 ,  4F074AA32 ,  4F074AA33 ,  4F074AA37 ,  4F074AA43 ,  4F074AA48 ,  4F074AA57 ,  4F074AA65 ,  4F074AA70 ,  4F074AA71 ,  4F074AA74 ,  4F074AA76 ,  4F074AA77 ,  4F074AA87 ,  4F074AC01 ,  4F074AC05 ,  4F074AC06 ,  4F074AD15 ,  4F074CB34 ,  4F074CB37 ,  4F074CB47 ,  4F074DA03 ,  4F074DA20 ,  4F074DA23 ,  4F074DA59

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ハニカム構造体およびその調製方法、ならびにその構造体を用いたフィルムおよび細胞培養基材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-340568   出願人：テルモ株式会社
• ハニカム構造体フィルムを用いた細胞の三次元組織培養法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-152379   出願人：理化学研究所
• 特許第3277233号明細書
  

審査官引用 (3件)

• 特公昭47-046775
  
• 特開平3-239734
  
• 特開平4-025534