特許

J-GLOBAL ID：200903073375999130

近接露光装置のマスクセッティング機構

発明者： 小八木 康幸 ,  上山 勉 ,  玉田 厚 ,  深尾 直志
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-082750
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267816
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】 簡単な構成でマスクセッティングを行う。【構成】 基板1を載置する露光ステージ41は昇降と水平面内での駆動とが可能に構成され、伸縮自在の支持ピン46が設けられている。アンローダロボット52のアームは、昇降と水平移動が可能である。通常の露光処理では、露光済基板1はアンローダロボット52に渡され、露光済基板カセット51に収納される。マスク2のセッティングでは、アンローダロボット52がマスクカセット81から取り出したマスク2をマスクホルダー21の上方に搬入する。露光ステージ41は支持ピン46を伸長させて上昇し、マスク2をアンローダロボット52から受け取り、アライメントスコープで位置ずれを検出し、露光ステージ41を水平面内で変位させて検出した位置ずれを補正し、マスク2のセッティングを行う。

請求項（抜粋）：

基板の表面に塗布された感光剤に焼き付ける所定のパターンが描画されたマスクをマスクホルダー上に搬入するとともに、前記搬入されたマスクを所定の基準位置に位置合わせして前記マスクのセッティングを行う近接露光装置のマスクセッティング機構であって、前記マスクを前記マスクホルダーの上方に搬入するマスク搬入手段と、前記基板を載置する露光ステージと、前記露光ステージを昇降駆動する昇降駆動手段と、前記露光ステージを水平面内で駆動する水平駆動手段と、前記基板を載置する前記露光ステージの載置面に対して出没可能に前記露光ステージに設けられ、前記マスクを下方から支持するマスク支持手段と、前記マスクホルダーの上方に搬入された前記マスクの、所定の基準位置に対する位置ずれを非接触で検出する位置ずれ検出手段と、前記マスク支持手段を前記載置面より突出させるとともに、露光ステージを上昇させて、前記マスクホルダーの上方に搬入された前記マスクを前記マスク搬入手段から前記マスク支持手段に受け渡しさせ、その状態で前記位置ずれ検出手段に所定の基準位置に対する前記マスクの位置ずれを検出させ、検出された位置ずれ量を補正するように前記露光ステージを水平駆動させた後、前記マスク支持手段に支持された前記マスクを前記マスクホルダー上に載置させるように制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする近接露光装置のマスクセッティング機構。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/02 ,  G03F 9/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-128639
  
• 特開昭60-074527