特許
J-GLOBAL ID：200903073377553465
プラズマ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
守谷 一雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-087355
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291190
出願日： 1992年04月08日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 被処理体へのスパッタや金属汚染のおそれが少なく、高密度プラズマを発生することができるプラズマ装置を提供する。【構成】 プラズマ発生電極を用いずに誘電体に所定形状のアンテナに高周波を印加することによってヘリコン波プラズマを発生させる。ヘリコン波プラズマから加速電極によって電子を引出すとともに加速し、反応性ガスが供給されている反応室に導入する。反応室では加速された電子により反応性ガスのプラズマが発生し、これによって被処理体に所定の処理をする。
請求項（抜粋）：
ヘリコン波プラズマを発生するプラズマ発生手段と、該プラズマ発生手段により発生したプラズマから電子を引出すための電子加速手段と、反応性ガスが供給されるとともに前記電子加速手段によって加速された電子により反応性ガスのプラズマを発生させ被処理体を処理するための反応室とを備えたことを特徴とするプラズマ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, H01L 21/268
, H05H 1/46
