回転式基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-307714
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148295
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】回転する基板の表面を均一に処理することができる回転式基板処理装置を提供することである。【解決手段】ハウジング1内に基板100を吸引保持する回転保持部2が配設される。回転保持部2はモータ3により回転軸P1の周りで回転駆動される。回転保持部2の周囲には基板100を取り囲むようにカップ4が上下動自在に設けられる。カップ4の側方にはブラシアーム6がアーム駆動部7により回動軸P2の回りで回動可能に設けられる。ブラシアーム6の先端部にはブラシ駆動部8が設けられ、ブラシ駆動部8の下部に洗浄ブラシ9が取り付けられる。制御部11は、洗浄ブラシ9が回転する基板100の表面の中心部から外周部に進むように洗浄ブラシ9の移動速度を可変に制御する。

請求項（抜粋）：

回転する基板の表面上の中心部から外周部の範囲または一方の外周部から中心部を経由して他方の外周部の範囲に処理具を移動させて前記基板の表面を処理する回転式基板処理装置において、前記処理具の移動速度を可変に制御する制御手段を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 1/04 , B08B 3/02

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 B , B08B 1/04 , B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-022428
特開昭64-076724
特開昭54-125981

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