特許
J-GLOBAL ID:200903073392578024
金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒及びその製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浜田 治雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-009947
公開番号(公開出願番号):特開2000-202287
出願日: 1999年01月18日
公開日(公表日): 2000年07月25日
要約:
【要約】【課題】 パラジウム、アルミナを構成成分とする触媒において、アルミナ表面積を変えることなく制御した金属パラジウム表面積を有し、同時に特定のパラジウム結晶面を有する水素添加反応用触媒及びその製造法の提供。【解決手段】 金属パラジウム表面積が1〜350m2/g・パラジウムの範囲であり、その表面積が1〜150m2/g・パラジウムである場合はパラジウムの結晶面が主として(100)、(110)であり、その表面積が150〜350m2/g・パラジウムの範囲である場合はパラジウム結晶面が(111)である水素添加反応用触媒で、ジニトロジアンミンパラジウム-硝酸溶液をアルミナ担体に担持し、直ちに還元するか、熱処理後還元することにより製造される。
請求項(抜粋):
パラジウム、アルミナを構成成分とし、金属パラジウム表面積が1〜350m2/g・パラジウムの範囲であり、その表面積が1〜150m2/g・パラジウムである場合はパラジウムの結晶面が主として(100)、(110)であり、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90°C、及び120〜170°Cの温度範囲にあり、後者の温度範囲に於ける水素脱離量が前者の1.5〜2.5倍であり、その表面積が150〜350m2/g・パラジウムの範囲である場合はパラジウム結晶面が(111)であり、水素を吸着させた後加熱脱離させた時、脱離ピーク温度が40〜90°C、及び120〜170°Cの温度範囲にあり、前者の温度範囲に於ける水素脱離量が後者の1.5〜2.5倍であることを特徴とする金属パラジウム物性を制御した水素添加反応用パラジウム触媒。
IPC (4件):
B01J 23/44
, C07C 5/03
, C07C 9/14
, C07B 61/00 300
FI (4件):
B01J 23/44 M
, C07C 5/03
, C07C 9/14
, C07B 61/00 300
Fターム (35件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069AA09
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA27A
, 4G069BA27B
, 4G069BA27C
, 4G069BB12A
, 4G069BB12B
, 4G069BB12C
, 4G069BC72A
, 4G069BC72B
, 4G069BC72C
, 4G069BE14A
, 4G069BE14B
, 4G069BE14C
, 4G069CC02
, 4G069DA08
, 4G069EA02X
, 4G069EA02Y
, 4G069EC25
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 4G069FB16
, 4G069FB30
, 4G069FB34
, 4G069FC07
, 4G069FC08
, 4H006AA02
, 4H006AC11
, 4H006BA25
, 4H006BA81
, 4H039CA19
, 4H039CB10
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