特許
J-GLOBAL ID：200903073394439838
アルミナの成膜方法及び磁気抵抗効果型磁気ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-351735
公開番号（公開出願番号）：特開平11-181564
出願日： 1997年12月19日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：
【要約】【課題】 より緻密な構造とされ絶縁性が向上されたアルミナ薄膜を成膜することができるアルミナの成膜方法及びその成膜方法を用いて絶縁体膜を製造することにより狭ギャップ化が可能となる磁気抵抗効果型磁気ヘッドを提供する。【解決手段】 基板1にアルミナを成膜してスパッタリングアルミナ膜2を形成する工程と、このスパッタリングアルミナ膜2上にアルミニウムを成膜してアルミニウム膜3を形成する工程と、上記アルミニウム膜3に酸化処理を施してアルミナからなる金属酸化アルミナ膜4を形成することにより、アルミナ膜10を形成する。
請求項（抜粋）：
被成膜材上にアルミナを成膜して第1のアルミナ膜を形成する工程と、上記第1のアルミナ膜上にアルミニウムを成膜してアルミニウム膜を形成する工程と、上記アルミニウム膜に酸化処理を施してアルミナからなる第2のアルミナ膜を形成する工程とを備えることを特徴とするアルミナの成膜方法。
IPC (4件)：
C23C 14/08
, C23C 14/58
, G11B 5/39
, H01L 21/31
C23C 14/08 A
, C23C 14/58 B
, G11B 5/39
, H01L 21/31 D
