特許

J-GLOBAL ID：200903073399868281

電子ビーム描画パターン形成方法

発明者： 森泉 幸一 ,  上山 欣也
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-012681
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221003
出願日： 1994年02月04日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：

【要約】【目的】 図形の分割を従来に比べてより正確に行なうことが可能な電子ビーム描画パターン形成方法を提供する。【構成】 入力図形を水平方向および垂直方向に分割し、その分割されたすべての図形に対して長辺の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決定値を総和して第1の総和値および第2の総和値を求める。そして、その第1および第2の総和値に基づいて分割方向を選択する。

請求項（抜粋）：

入力された図形を電子ビーム露光装置で描画可能な基本図形に分割する分割工程を含む電子ビーム描画パターン形成方法であって、前記分割工程は、前記入力された図形を水平方向に分割するステップと、前記水平方向に分割されたすべての図形に対して、長辺の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決定値を総和して第1の総和値を求めるステップと、前記入力された図形を垂直方向に分割するステップと、前記垂直方向に分割されたすべての図形に対して、長辺の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決定値を総和して第2の総和値を求めるステップと、前記第1の総和値と前記第2の総和値とに基づいて分割方向を選択するステップとを備えた、電子ビーム描画パターン形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 541 D ,  H01L 21/30 507 R