特許
J-GLOBAL ID：200903073400282997
フォトクロミック薄膜およびその製造方法、並びにそれを用いた光機能素子
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-261744
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069439
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：
【要約】【課題】フォトクロミック化合物の光異性化反応における変換率を向上させ、大きな吸光度変化および屈折率変化を示すフォトクロミック薄膜と、上記フォトクロミック薄膜を用いて優れた光機能素子を得る。【解決手段】光照射により可逆的な光異性化反応を示すアモルファスのジアリールエテン系化合物などのフォトクロミック化合物から成り、開環したジアリールエテン化合物からなるフォトクロミック化合物に光照射することによって生成した閉環したジアリールエテン化合物を所定の基板表面に塗布形成することによって、開環したジアリールエテン化合物から閉環したジアリールエテン化合物への変換率が50%以上のフォトクロミック薄膜を得る。
請求項（抜粋）：
光照射により可逆的な光異性化反応を示すフォトクロミック化合物から成り、光異性化反応による異性体への変換率が50%以上であることを特徴とするフォトクロミック薄膜。
IPC (2件)：
C09K 9/02
, G03C 1/73 503
C09K 9/02 B
, G03C 1/73 503
