特許

J-GLOBAL ID：200903073416438377

ベース電極の洗浄方法

発明者： アンドレアス・エルシユナー ,  ロルフ・ベーアマン ,  ジークフリート・トウルム ,  マルテイン・ヒユパウフ ,  ブリギツテ・グロテ
出願人/特許権者： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト ,  ロベルト・ボツシユ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193358
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092585
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 動作特性を改良する。【解決手段】 有機層の付着前にベース電極が、プラズマ反応器内の酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトンまたはそれらの混合物から選択されたプラズマガス中に曝されるエレクトロルミネッセンス発生装置のベース電極の洗浄。

請求項（抜粋）：

有機層の付着前に、ベース電極が、プラズマ反応器内において酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン及びそれらの混合物から選択されたプラズマガスに曝されることを特徴とするエレクトロルミネッセンス発生装置のベース電極の洗浄方法。

IPC (3件)：

H05B 33/26 ,  C09K 11/06 ,  H05B 33/10

FI (3件)：

H05B 33/26 ,  C09K 11/06 Z ,  H05B 33/10