特許
J-GLOBAL ID：200903073430966394

発生させたプラズマ間の容量電流における位相部と逆位相部が平衡する誘導構造によって励起される高周波プラズマ処理方法

発明者：
ビノグラードフ ゲオールギー

ビノグラードフ ゲオールギー について

, 
米山 詩麻夫

米山 詩麻夫 について


出願人/特許権者：
エム・シー・エレクトロニクス株式会社

エム・シー・エレクトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-521107
公開番号（公開出願番号）：特表2000-501568
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：
【要約】製品28、119の製造方法。本発明の製品の製造方法は、基板を物質によって処理する工程から成り、前記物質の少なくとも1つが高周波電場によって励起される気相放電により生起する種から生じ、前記高周波電場では、誘導結合構造により誘導された容量性電流の位相部および逆位相部のベクトル合成が平衡していることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
物質により基板を処理する工程から成り、前記物質の少なくとも1つが高周波電場によって励起される気相放電により生起する種から生じ、高周波電場においては、誘導結合構造により誘導された容量電流の位相部および逆位相部のベクトル合成が平衡していることを特徴とする製品の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/50 B ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • LEP電源位相微調機構
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-198000   出願人：日新電機株式会社, 松下電器産業株式会社
  • 共振器
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-101916   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • プラズマエッチング・CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-308284   出願人：ソニー株式会社

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