偏光遅延機構及びマイクロリソグラフィ投影露光機

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-540251
公開番号（公開出願番号）：特表2008-520084
出願日： 2004年11月10日
公開日（公表日）： 2008年06月12日
要約：

【課題】遅延機構であって、それを使用することにより、それを備えた光学系を非常に好都合に構成できるようにする遅延機構を提供する。【解決手段】遅延機構の入力側から入射する入力光ビームを、遅延機構の影響を受けることができる偏光状態の空間分布であって、入力光の偏光状態の空間分布と異なる空間分布を断面全体にわたって有する出力光ビームに変換するための遅延機構が、反射遅延機構として構成されている。遅延機構の有効断面は、異なった遅延効果を備える多数の遅延区画を有する。位置に応じて変化する遅延効果を有するそのような鏡機構を使用して、入力光ビームの断面全体における偏光状態の望ましくない変動を補償し、かつ/又は、たとえば半径方向又は接線方向偏光を設定するように、特定の出力偏光状態を設定することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

遅延機構において、遅延機構の入力側から入射する入力光ビームを、遅延機構の影響を受けることができる偏光状態の空間分布であって、入力光の偏光状態の空間分布と異なる空間分布を断面全体にわたって有する出力光ビームに変換するための遅延機構であって、遅延機構は、反射遅延機構として構成されており、また遅延機構の有効断面は、異なった遅延効果を備える多数の遅延区画を有する、遅延機構。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G02B 5/26 , G02B 5/18 , G02B 5/30

FI (6件)：

H01L21/30 531A , G03F7/20 521 , H01L21/30 515D , G02B5/26 , G02B5/18 , G02B5/30

Fターム (35件)：

2H048FA05 , 2H048FA09 , 2H048FA18 , 2H048FA22 , 2H048FA24 , 2H049AA07 , 2H049AA18 , 2H049AA33 , 2H049AA64 , 2H049BA02 , 2H049BA03 , 2H049BA07 , 2H049BA42 , 2H049BA43 , 2H049BA47 , 2H049BB01 , 2H049BB03 , 2H049BB63 , 2H049BC08 , 2H049BC21 , 2H249AA07 , 2H249AA18 , 2H249AA33 , 2H249AA64 , 5F046BA05 , 5F046CA04 , 5F046CB03 , 5F046CB05 , 5F046CB10 , 5F046CB11 , 5F046CB12 , 5F046CB13 , 5F046CB23 , 5F046GA03 , 5F046GB01

引用特許：

出願人引用 (3件)

ドイツ特許第10124803号
米国特許出願第2002/0176166A1号
ドイツ特許出願第10324468.9号

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