特許

J-GLOBAL ID：200903073446795816

ポジ型金属酸化物薄膜パターン形成用組成物及びポジ型金属酸化物薄膜パターンの形成方法

発明者： 曽山 信幸 ,  米澤 政 ,  小木 勝実
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-181785
公開番号（公開出願番号）：特開平9-034113
出願日： 1995年07月18日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】 ゾルゲル法によりポジ型金属酸化物薄膜パターンを形成する。【解決手段】 金属アルコキシドと光照射により金属アルコキシドの安定化剤を発生する安定化剤発生剤とを含有するポジ型金属酸化物薄膜パターン形成用組成物。この組成物を基板に塗布して光照射し、照射部の光分解反応による光照射部と非照射部との溶解度差を利用してパターニングする。【効果】 金属アルコキシドは、光照射により安定化剤発生剤から発生した安定化剤と反応して加水分解性が低く、空気中の水分に対して安定なものとなる。光照射部では、金属アルコキシドが安定化剤で安定化されるため、加水分解することはないが、非照射部では金属アルコキシドが加水分解し、溶剤に対して不溶性の金属水酸化物が生成する。光照射後に溶剤で現像すると、光照射部のみが溶解除去され、非照射部が残ることにより、ポジ型金属酸化物薄膜パターンが形成される。

請求項（抜粋）：

金属アルコキシドと、光照射により、該金属アルコキシドの安定化剤を生成する安定化剤発生剤とを含有することを特徴とするポジ型金属酸化物薄膜パターン形成用組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 501 ,  C07C 31/28 ,  G03F 7/004 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316 ,  C01G 23/00

FI (7件)：

G03F 7/039 501 ,  C07C 31/28 ,  G03F 7/004 502 ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/316 G ,  C01G 23/00 C ,  H01L 21/30 502 R