特許
J-GLOBAL ID：200903073450246681
感光性永久マスクパターンの製造法及び現像液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-192651
公開番号（公開出願番号）：特開平11-038642
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 従来の感光性永久マスクの現像時間、解像性及び現像残渣における問題点を解消した感光性永久マスク材料用現像液及びこれを用いた感光性永久マスクパターンの製造法を提供する。【解決手段】 一般式(I)又は一般式(II)【化1】(式中、R1は炭素数1〜20のアルキル基を示し、R2は炭素数1〜20のアルキレン基を示す)で表される化合物を含有する現像液であって、(A)酸価が20〜300、重量平均分子量が400〜500,000の樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性永久マスク材料を現像するための感光性永久マスク材料用現像液及びこれを用いた感光性永久マスクパターンの製造法。
請求項（抜粋）：
一般式(I)又は一般式(II)【化1】(式中、R1は炭素数1〜20のアルキル基を示し、R2は炭素数1〜20のアルキレン基を示す)で表される化合物を含有する現像液であって、(A)酸価が20〜300、重量平均分子量が400〜500,000の樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性永久マスク材料を現像するための感光性永久マスク材料用現像液。
IPC (7件)：
G03F 7/32
, G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, G03F 7/038 503
, H05K 3/06
, H05K 3/28
G03F 7/32
, G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, G03F 7/038 503
, H05K 3/06 G
, H05K 3/28 D
