特許
J-GLOBAL ID：200903073458175368

色フィルタアレ-の作製法

発明者：
ルーサー シー ロバーツ

ルーサー シー ロバーツ について

, 
エライン アール ルイス

エライン アール ルイス について

, 
シャーレン エー ウィルソン

シャーレン エー ウィルソン について

, 
デビッド エル ロージー

デビッド エル ロージー について


出願人/特許権者：
イーストマン コダック カンパニー

イーストマン コダック カンパニー について


代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019508
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271527
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 光や熱に対して安定で、かつ低価格で高品質の色フィルタアレーを簡単に製造する方法を提供する。【解決手段】 色フィルタアレーを第一の基板300上に作製する方法であって、第一の基板300上に接着補助層301を成膜し、接着補助層301を中間層で被覆し、中間層をフォトレジスト層で被覆し、フォトレジスト層を露光および現像して、第一の開口列を形成し、パターン化されたフォトレジスト層304をマスクに用いて中間層をエッチングして、中間層内に第二の開口列をシフトオフ法により形成する。
請求項（抜粋）：
均一な厚さの有機顔料からなる色フィルタアレーを第一の基板上に作製する方法が、a)前記第一の基板上に接着補助層を成膜する工程と、b)前記接着補助層を中間層で被覆する工程と、c)前記中間層をフォトレジスト層で被覆する工程と、d)前記フォトレジスト層を露光および現像して、第一の開口列を形成する工程と、e)該パターン化されたフォトレジスト層をマスクに用いて前記中間層をエッチングして、前記中間層内に第二の開口列を形成する工程であって、該第二の開口は対応する前記パターン化されたフォトレジスト層内の第一の開口よりも幅広である開口列の形成工程と、f)前記パターン化されたフォトレジスト層上に有機顔料層を形成する工程と、g)前記パターン化されたフォトレジスト層とその上層の有機顔料層をリフトオフする工程と、h)前記中間層を除去して、前記有機顔料層を前記第二の開口中の所定の位置に残す工程と、を含むことを特徴とする色フィルタアレーの作製方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101 ,  G09F 9/30 349
FI (2件)：
G02B 5/20 101 ,  G09F 9/30 349 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM