特許

J-GLOBAL ID：200903073461731808

ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法

発明者： 森田 好次
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-229290
公開番号（公開出願番号）：特開平6-056999
出願日： 1992年08月05日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：

【要約】【目的】 分子鎖両末端に、エポキシ基含有オルガノポリシロキサン残基を有する、新規なジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法を提供する。【構成】 分子鎖両末端に、一般式:【化1】{式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2はアルケニル基を除く一価炭化水素基または水素原子であり、R3はエポキシ基結合有機基またはアルコキシシリルアルキル基であり、ただし、R3の内少なくとも1個はエポキシ基含有有機基であり、R4は二価炭化水素基であり、またaは0または正数であり、bは正数であり、cは正数であり、かつa/cは0〜4の正数であり、b/cは0.05〜4の正数であり、(a+b)/cは0.2〜4の正数である。}で表されるオルガノポリシロキサン残基を有するジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

分子鎖両末端に、一般式:【化1】{式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2はアルケニル基を除く一価炭化水素基または水素原子であり、R3はエポキシ基含有有機基またはアルコキシシリルアルキル基、ただし、R3の内少なくとも1個はエポキシ基含有有機基であり、R4は二価炭化水素基であり、またaは0または正数であり、bは正数であり、cは正数であり、かつa/cは0〜4の正数であり、b/cは0.05〜4の正数であり、(a+b)/cは0.2〜4の正数である。}で表されるエポキシ基含有オルガノポリシロキサン残基を有するジオルガノポリシロキサン。

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭61-060726
  
• 特開平2-069528