特許

J-GLOBAL ID：200903073462985870

フルオロシクロプロパン誘導体の製造方法

発明者： 金子 主税 ,  豊田 朱見 ,  早川 勇夫
出願人/特許権者： 第一製薬株式会社
代理人 (1件)： 今村 正純 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-231939
公開番号（公開出願番号）：特開平10-072402
出願日： 1996年09月02日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【解決手段】 式(I): CH2=CH-CO-OR1(R1は低級アルキル基)で表される化合物と式(II): ArSOCH2X (Arはアリール基、X はCl又はBr)で表される化合物とを反応させて式(III) で表される化合物を製造した後、該化合物に分子状フッ素を反応させて式(IV)で表される化合物を製造し、さらに該化合物を還元的に脱スルホニル化する工程を含む: 式(V)(R2はH 又は低級アルキル基)で表される化合物の製造方法。【化1】【効果】 医薬又は農薬の製造に有用な(1R,2S)-2-フルオロシクロプロピルアミンの製造用中間体を効率よく製造することができる。

請求項（抜粋）：

下記の工程:(a) 式(I):CH2=CH-CO-OR1(式中、R1は低級アルキル基を示す)で表される化合物と式(II):ArSOCH2X(式中、Arはアリール基を示し、X は塩素原子又は臭素原子である)で表される化合物とを反応させて、式(III):【化1】(式中、R1及びArは前記のとおりである)で表される化合物を製造する工程;(b) 式(III) で表される化合物に分子状フッ素を反応させて、式(IV):【化2】(式中、R1及びArは前記のとおりである)で表される化合物を製造する工程;及び(c) 式(IV)で表される化合物を還元的に脱スルホニル化し、及び必要に応じて得られた脱スルホニル化合物を加水分解する工程;を含む式(V):【化3】(式中、R2は水素原子又は低級アルキル基を示す)で表される化合物の製造方法。

IPC (6件)：

C07C 61/15 ,  C07C 51/347 ,  C07C 67/317 ,  C07C 69/74 ,  C07C317/44 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 61/15 ,  C07C 51/347 ,  C07C 67/317 ,  C07C 69/74 A ,  C07C317/44 ,  C07B 61/00 300