液晶性ポリエステルアミドの製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-195307
公開番号（公開出願番号）：特開平10-017667
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：

【要約】【課題】MD方向およびTD方向の弾性率と強度が高く、且つ、加工性に優れた成形体を与えることが出来る液晶性ポリエステルアミドの製造法を提供する。【解決手段】下記の化学式(1)〜(6)で示される芳香族化合物と無水酢酸とから液晶性ポリエステルアミドを製造する方法であって、特定の溶融粘度を満足する液晶性ポリエステルアミドを製造するに当たり、特定のモル比条件下に各原料を仕込んでアセチル化反応を行った後、減圧下において重縮合を行うことを特徴とする液晶性ポリエステルアミドの製造方法。【化1】

請求項（抜粋）：

下記の化学式(1)〜(6)で示される芳香族化合物と無水酢酸とから液晶性ポリエステルアミドを製造する方法であって、溶融粘度が下記(V)及び(VI)の式を満足する液晶性ポリエステルアミドを製造するに当たり、前記芳香族化合物のモル数をそれぞれ[1]〜[6]、芳香族化合物中の芳香族性水酸基の総モル数を[A]、無水酢酸のモル数を[B]で表した場合、芳香族化合物の合計モル数に対する[5]と[6]の各値がそれぞれ添付の図1におけるABCDEG点で囲まれた領域内にあり、[2]〜[4]がそれぞれ下記(I)〜(III)の式を満足し、しかも、[B]/[A]が下記(IV)の式を満足する様に仕込み、アセチル化反応を行った後、減圧下において重縮合を行うことを特徴とする液晶性ポリエステルアミドの製造方法。【化1】【数1】 0.04≦([2]/[1]+[2])≦0.36 (I) 0.5≦([3]/[3]+[4]+[5])≦0.9 (II) 0.05≦([4]/[3]+[4]+[5])≦0.35 (III) 1.01≦([B]/[A])≦1.20 (IV) η50≦104 (V) log(η100 /η1000)≦0.25 (VI)(但し、(V)及び(VI)式中、η50、η100 及びη1000は、それぞれ、温度300°Cにおける、剪断速度50、100及び1000sec -1の溶融粘度(単位:ポアズ)を表す。)

IPC (2件)：

C08G 69/44 NSR , C08G 69/32 NST

FI (2件)：

C08G 69/44 NSR , C08G 69/32 NST

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