特許
J-GLOBAL ID：200903073470771499
成形品の製造方法,成形品が押着された対象物の製造方法,成形品,成形品が押着された対象物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀谷 美明 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050766
公開番号（公開出願番号）：特開2001-260141
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：
【要約】【課題】 製品の不良率を低下させ,生産性を向上させるため,シリコンガムを利用した成形品又は模様の製造方法を提供する。【解決手段】 金属板に必要とする模様を陰刻で刻印し,型を形成する第1段階と,所定量のシリコン及び硬化材を混合したシリコンガムと色相調節した顔料を混合し,押圧しながら前記模様の型に注入する第2段階と,真空ポンプで好適な真空減圧下の真空脱泡機に,シリコン混合物を所定時間放置して気泡を除去する第3段階と,真空脱泡機から取り出した型の汚れを除去し,模様を刻印したい対象物に型を押圧しながらシリコン混合物を押着させる第4段階と,対象物から型を分離することによって,型から分離されて対象物の表面に押着されている模様を所定時間放置して凝固させる第5段階とを工程として含む製造方法。
請求項（抜粋）：
所定の形状および/または模様を陰刻した型を形成する第1段階と,所定量のシリコンと硬化材を混合したシリコンガムに対して所望の色相に調製した顔料を混合してシリコン混合物を合成し,前記シリコン混合物を前記型に注入する第2段階と,真空ポンプで所定の減圧雰囲気に制御された真空脱泡機に前記シリコン混合物を所定時間放置して気泡を除去する第3段階と,前記シリコン混合物を前記真空脱泡機から取り出し,不要部分を除去し整形する第4段階と,前記成形品を前記型から分離し,所定時間放置して凝固させる第5段階と,を含むことを特徴とする,成形品の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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