特許

J-GLOBAL ID：200903073481564878

プラズマ処理装置

発明者： 山口 直志 ,  三橋 章男 ,  高木 清彦
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-314125
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124191
出願日： 2001年10月11日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：

【要約】【課題】 異常放電を発生させることなく、安定したプラズマを生成することが可能なプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 真空容器内に、アンテナコイルを支持する凹型の支持部材を配置することで解決できる。

請求項（抜粋）：

真空容器の外部にアンテナコイルを有し、前記アンテナコイルは支持部材によって支持され、前記アンテナコイルに高周波電力を印加することでプラズマを発生させ、真空容器内に配置された基板を処理するプラズマ処理装置であって、支持部材は凹形状の部材であり、前記支持部材の高さから凹みの深さを差し引いた距離が5mm以上10mm以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B

Fターム (16件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075EC21 ,  4K030FA01 ,  4K030KA14 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB32 ,  5F004BC08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-045742   出願人：松下電器産業株式会社