特許
J-GLOBAL ID：200903073507814622
光回折パターンシールとその使用方法、および光回折パターンシールを用いた証明用媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鎌田 久男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-314373
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140899
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 貼付後に剥離することができない光回折パターンシールを提供する。【構成】 シール10は、光回折パターン画像が形成された光回折パターン形成層12(樹脂層12a,反射層12b)と、光回折パターン形成層12の上部に設けられた透明または半透明の支持層14と、支持層14の下層に設けられ、光回折パターン形成層12と剥離可能に結合する剥離層13と、光回折パターン形成層12の下層に設けられ、貼付対象物と粘着する粘着層11とを備える。貼付対象物に貼付されたシール10を剥離しようとすると、粘着層11と貼付対象物とは分離されずに、剥離層13と光回折パターン形成層12との間で層間剥離が発生する。
請求項（抜粋）：
光回折パターンによる画像が形成された光回折パターン形成層と、前記光回折パターン形成層の上部に設けられた透明または半透明の支持層と、前記光回折パターン形成層の下層に設けられ、貼付対象物と粘着する粘着層とを備えることを特徴とする光回折パターンシール。
IPC (3件)：
G09F 3/02
, B42D 15/10 501
, G02B 5/18
