特許
J-GLOBAL ID：200903073508245125
スポット位置制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-353078
公開番号（公開出願番号）：特開平5-297302
出願日： 1992年12月11日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 高解像度で光ビームを偏向するスポット位置制御装置を提供する。【構成】 光源14は、低速走査方向に間隔が近接しそれぞれアドレスされた光ビーム16を発光する固体ダイオードレーザーのモノシリックアレイから構成される。この光ビーム16は球面レンズ18及びシリンドリカルレンズ20を介して高速走査する走査装置(ポリゴン)24の反射面26に照射され、この反射光が複合球面レンズ28及びトロイダルレンズ30を介して画像平面32に照射される。この光源14ではモノシリックアレイの何れか1つが発光するように制御され、画像平面32上には、光源14の制御された発光部位に応じた低速走査方向の位置のスポットが形成される。従って、各走査毎に光源14の発光部位が制御され、低速走査方向のスポット位置が制御される。
請求項（抜粋）：
光ビームが生成されるとともに画像平面手段上のスポットへその焦点が集められ、さらに前記画像平面手段を高速走査方向に走査するラスター走査光学出力装置において、前記画像平面手段上の高速走査方向に垂直な方向にスポット位置を制御するスポット位置制御装置であって、それぞれ前記画像平面手段上の個別のスポットに対して焦点を合わせることができる光ビームを発光可能なタイプであり、前記画像平面手段上に焦点を合わせることができるスポット同士の全差は連続的な高速走査方向走査線同士の距離に等しくなる少なくとも2個の独立的にアドレス可能な発光要素のアレイと、一度にただひとつの要素のみが発光でき、さらに前記発光要素からの発光を制御することで前記高速走査方向に垂直な方向に前記画像平面手段上の前記スポット位置を制御するように、少なくとも2個の発光要素のそれぞれの発光を独立的に制御する制御手段と、を含むスポット位置制御装置。
IPC (5件)：
G02B 26/10
, B41J 2/44
, G01B 11/00
, G05D 3/12
, H04N 1/04 104
