特許
J-GLOBAL ID：200903073512963253
直接工作隆起構造再帰反射性コーナキューブ物品と製作方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-512200
公開番号（公開出願番号）：特表平9-504383
出願日： 1994年10月20日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：
【要約】コーナキューブ物品と、この物品を一連の直接工作可能一体化基体(140)から製作する方法。この製作方法は再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を準備する工程を含む。次に、第1コーナキューブ素子領域(142)がコーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を有する領域として形成される。この領域は平行な溝の少なくとも2種の溝セットを基体に直接工作することによって作られる。コーナキューブ素子列体領域のレプリカは再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体として形成される。レプリカ基体材料は部分的に除去される。これらの部分的除去は少なくとも溝セットにより形成されたコーナキューブ素子の深さまでの側壁によって境界付けられる少なくとも2個の交差するキャビティをレプリカに形成する。各キャビティは他方の交差キャビティの最深度に実質的に等しい深さまでレプリカに延入している少なくとも1つの側壁を含んで成る。
請求項（抜粋）：
コーナキューブ物品を製作する方法であって: a)再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を準備し; b)該初期基体にコーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで成る第1のコーナキューブ素子列体領域を、少なくとも平行な溝の2種のセットを該基体に直接工作することによって作り; c)再帰反射面を形成するのに適した追加の一体化基体としてコーナキューブ素子列体領域のレプリカを作成し; d)該レプリカを含んで成る基体材料を部分的に除去し、それによって少なくとも溝セットによって形成されているコーナキューブ素子の深さの側壁によって境界付けられている少なくとも1つのキャビティをレプリカに形成し; e)レプリカを複製し、それによって再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化直接工作可能基体として、少なくとも初期平行溝によって形成されているコーナキューブ素子の高さの側壁を有する少なくとも1つの隆起セクションを含んで成る斯かる追加基体を作成し;そして f)少なくとも1つの隆起セクションを直接工作し、それによって平行な溝の少なくとも2種の溝セットによって境界付けられているコーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで成る追加の領域を形成する、 以上の諸工程を含んで成る、斯かるコーナキューブ物品の製作方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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