特許
J-GLOBAL ID：200903073514224210

パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法

発明者：
依田 晴夫

依田 晴夫 について

, 
野副 真理

野副 真理 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-307961
公開番号（公開出願番号）：特開2006-113073
出願日： 2005年10月24日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。【解決手段】高速のパターン欠陥検査装置に、欠陥の検出に同期して欠陥の画像的特徴量を計算する手段と、計算された特徴量によって欠陥をクラスタに分類する手段とを付加する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
繰り返しパターンを含む部分が所定ピッチで配列された被検査物のパターンを検査するパターン欠陥検査装置において、 前記被検査物を電子線,光ビーム,照明光の少なくとも一つで一次元方向に走査して得られる映像信号を入力する撮像手段と、 前記撮像手段で得られた前記映像信号から前記欠陥領域の欠陥画像と前記欠陥領域と同じパターンを有する正常領域の参照画像とを比較して欠陥を抽出する欠陥抽出手段と、 前記欠陥領域の抽出とほぼ同時に前記欠陥の画像の濃淡値を演算するとともに、前記欠陥領域に対応する前記正常領域の微分濃度である良品微分濃度を特徴量として演算する特徴量演算手段と、 前記特徴量に基づいて前記欠陥をクラスタ分類する分類手段と、 前記クラスタ分類した結果を表示する表示手段と を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 23/225 ,  H01L 21/66 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00
FI (4件)：
G01N23/225 ,  H01L21/66 J ,  G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A
Fターム (52件)：
2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001AA10 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001DA08 ,  2G001FA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA05 ,  2G001JA07 ,  2G001JA13 ,  2G001JA16 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA04 ,  2G051EA21 ,  2G051EB03 ,  2G051EC01 ,  2G051ED11 ,  2G051ED21 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  5B057AA03 ,  5B057BA01 ,  5B057BA02 ,  5B057BA29 ,  5B057DA03 ,  5B057DA12 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC04 ,  5B057DC16 ,  5B057DC22 ,  5B057DC32 ,  5B057DC36
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特開昭59-192943号公報
審査官引用 (1件)

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