特許
J-GLOBAL ID:200903073515697007

真空ポンプ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川井 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-018996
公開番号(公開出願番号):特開2000-220595
出願日: 1999年01月27日
公開日(公表日): 2000年08月08日
要約:
【要約】【課題】 ターボ分子ポンプ等の真空ポンプ装置内部の部材、例えばロータ翼やステータ翼のブレードの表面からブレード内部へ熱が伝達しないようにする。【解決手段】 ポンプ圧縮熱やヒータからの熱にさらされるターボ分子ポンプ装置1のロータ翼62又はステータ翼72のブレード12上に、熱の不良導体被膜からなる第一層13と、第一層13の表面の上に熱の良導体被膜からなる第二層14を形成する。この2層構造の被膜によって、熱の第二層14からブレード12への伝達を防ぐ。その結果ロータ翼62やステータ翼72のブレード12の表面が冷却されず、翼表面に付着・堆積しようとする半導体生成物が円滑に昇華される。
請求項(抜粋):
熱の不良導体被膜からなる第一の層と、この第一層の上に形成された熱の良導体被膜からなる第二の層と、の二層構造からなる被膜が真空ポンプ装置内の部材上に形成されていることを特徴する真空ポンプ装置。
FI (2件):
F04D 19/04 G ,  F04D 19/04 E
Fターム (8件):
3H031DA01 ,  3H031DA02 ,  3H031DA07 ,  3H031FA01 ,  3H031FA31 ,  3H031FA34 ,  3H031FA35 ,  3H031FA36

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