特許

J-GLOBAL ID：200903073522069674

レーザマーキング用マスク及びレーザマーキング用マスクの製造方法

発明者： 中里 悦郎
出願人/特許権者： 直江津電子工業株式会社
代理人 (1件)： 早川 政名
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-118639
公開番号（公開出願番号）：特開平7-323387
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】 透明ガラス基板の片面のみにクモリ状散乱部分によるパターンを形成することで、十分にレーザ光を遮光できるレーザマーキング用マスク、及びそのマスクを製造する方法を提供すること。【構成】 透明ガラス基板にレーザ光を透過する透明部分とレーザ光を散乱する散乱部分より形成されたパターンを有するレーザマーキング用マスクにおいて、前記散乱部分を透明ガラス基板の片面のみに形成すると共に、その散乱部分の表面形状は鋭角な山形の凹凸面とし、その鋭角な山形の凸部は単位面積当たり1×105 個/ mm2 〜2×105 個/ mm2 の割合で形成する。

請求項（抜粋）：

透明ガラス基板にレーザ光を透過する透明部分とレーザ光を散乱する散乱部分より形成されたパターンを有するレーザマーキング用マスクにおいて、前記散乱部分を透明ガラス基板の片面のみに形成すると共に、その散乱部分の表面形状は鋭角な山形の凹凸面とし、その鋭角な山形の凸部は単位面積当たり1×105 個/ mm2 〜2×105 個/ mm2 の割合で形成されていることを特徴とするレーザマーキング用マスク。

IPC (5件)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  B44C 1/22 ,  C23F 1/00 ,  G02B 5/00