特許
J-GLOBAL ID：200903073537150583
光コネクターフェルールの研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-115867
公開番号（公開出願番号）：特開平9-300192
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：
【要約】【課題】 セラミックによるフェルールに光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートに研磨水溶液を供給した湿式研磨で凸状球面に研磨するについて、表面平滑性および段差のない研磨を行って低反射による伝達効率の向上を図る。【解決手段】 光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5と研磨水溶液16を用いて凸状球面に研磨するについて、光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5上を摺動させる際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜25nmのシリカゲルと酸化セリウムを含む研磨水溶液16を供給して研磨する。
請求項（抜粋）：
フェルール穴に光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートと研磨水溶液を用いて凸状球面に研磨する光コネクターフェルールの研磨方法において、研磨の際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜25nmのシリカゲルの分散物と酸化セリウムを含む研磨水溶液を供給することを特徴とする光コネクターフェルールの研磨方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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