特許

J-GLOBAL ID：200903073552409097

微小領域X線測定方法及び装置

発明者： 中村 栄作
出願人/特許権者： 理学電機株式会社
代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-113756
公開番号（公開出願番号）：特開平6-300717
出願日： 1993年04月16日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【目的】 効率良く、短時間にマッピング測定を行うことのできるX線測定方法を提供する。【構成】 試料1の表面上の複数の微小領域を顕微鏡装置18を用いて目視によって次々に観察し、観察した複数の微小領域を座標によって特定してコンピュータの記憶媒体に順次記憶し、記憶したそれらの座標値を順次に読み出し、X-Yステージ4を用いて試料1を平行移動させて読み出された座標位置をコリメータ14から出射するX線の照射位置に順次に持ち運び、順次に持ち運ばれる各座標領域に対してX線回折測定を実行する。顕微鏡装置18による測定領域の選択及びその領域に対して行われるX線回折測定を交互に行う場合に比べてマッピング測定を迅速に実行できる。

請求項（抜粋）：

1つの試料について異なる複数の微小領域を選択し、それらの微小領域にX線を順次に照射し、個々の微小領域で回折したX線をX線検出器によって検出するようにした微小領域X線測定方法において、試料の表面上の複数の微小領域を試料観察手段を用いて目視によって次々に観察し、観察した複数の微小領域を座標によって特定して記憶手段に順次記憶し、記憶したそれらの座標値を順次に読み出し、試料ステージを用いて試料を平行移動させて読み出された座標値をX線照射位置に順次に持ち運び、順次に持ち運ばれる各座標領域に対してX線回折測定を実行することを特徴とする微小領域X線測定方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-218754
  
• 特開平4-175648
  
• 特開平3-059449
  
• 特開昭55-060843