特許

J-GLOBAL ID：200903073557085214

マスクとワークの位置合わせ方法および装置

発明者： 田中 米太
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-239783
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082615
出願日： 1995年09月19日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 高精度な位置合わせを行うことができ、逐次露光に適用するに好適なマスクとワークの位置合わせ方法および装置を提供すること。【解決手段】 ワークステージ4上のワーク固定領域と離れた位置に反射部材4aを設ける。そして露光光照射装置1より露光光をマスクMに照射して、上記反射部材4aにマスクMのアライメント・マークを投影し、投影像を受像してその相対位置を記憶する。ついで、上記露光光の照射を停止して、ワークWが載置されたワークステージ4を、マスクMのアライメント・マークがワークW上に投影される位置に移動させ、非露光光をワークWのアライメント・マークに照射し、ワークのアライメント・マークを受像して、その相対位置を検出する。そして、両アライメント・マークの位置が重なるようにワークWおよび/またはマスクMを移動させる。

請求項（抜粋）：

第1の光照射部より露光光をマスクのアライメント・マークに照射し、ワークステージ上であってワーク固定領域から離れた位置に設けられた反射部材にマスクのアライメント・マークを投影して、該投影像を受像・画像処理して、その相対位置を検出/記憶し、第1の光照射部からの露光光の放出を停止したのち、ワークが載置されたワークステージを、マスク上のアライメント・マークが上記ワーク上に投影される位置に移動させ、上記第1の光照射部もしくは第2の光照射部より非露光光をワークのアライメント・マークへ照射し、ワークのアライメント・マークを受像・画像処理して、相対位置を検出/記憶し、該両アライメント・マークの相対位置データを演算して、該両アライメント・マークが重なるようにワークおよび/またはマスクを移動させることを特徴とするマスクとワークの位置合わせ方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 525 P ,  G03F 9/00 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-177528
  
• 特開昭63-133523
  
• 特開昭63-177421