特許
J-GLOBAL ID:200903073569175081

積層体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-196136
公開番号(公開出願番号):特開平9-294959
出願日: 1996年07月25日
公開日(公表日): 1997年11月18日
要約:
【要約】【課題】 可撓性のある薄いフィルム基材に、縦皺、裏廻り等の不良が無く、層厚分布が±5%以下に制御された厚み100nm程度の層を連続的に形成する製造方法を提供する。【解決手段】 可撓性を有する基材の少なくとも片面に層を形成し積層体を製造する方法において、該層の少なくとも一層を、金属アルコキシド1種類以上又は紫外線硬化型樹脂1種類以上を主成分とし、塗工時の粘度0.1〜200cP、固形分濃度0.1〜10重量%の塗液をマイクログラビア塗工方式によって塗工し、乾燥、硬化することによって形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
可撓性を有する基材の少なくとも片面に層を形成し積層体を製造する方法において、該層の少なくとも一層を、金属アルコキシド1種類以上又は紫外線硬化型樹脂1種類以上を主成分とし、塗工時の粘度0.1〜200cP、固形分濃度0.1〜10重量%の塗液をマイクログラビア塗工方式によって塗工し、乾燥、硬化することによって形成することを特徴とする積層体の製造方法。
IPC (4件):
B05D 5/06 104 ,  G02B 1/11 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510
FI (4件):
B05D 5/06 104 K ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02B 1/10 A

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