特許
J-GLOBAL ID:200903073575596790
光画像計測装置、それを制御するプログラム及び光画像計測方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三澤 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-095123
公開番号(公開出願番号):特開2008-246158
出願日: 2007年03月30日
公開日(公表日): 2008年10月16日
要約:
【課題】被検眼に信号光の強度を低減させる部位が存在する場合であっても、明瞭なOCT画像を容易に取得できる。【解決手段】眼底観察装置1は、干渉光LCの検出結果を基に干渉光の強度分布を求める干渉強度分布演算部213と、この強度分布に基づいて被検眼Eに対する信号光LSの照射位置を決定する照射位置決定部214とを有する。照射位置決定部214は、干渉光の強度が小さい領域を避けるように、つまり被検眼E内の混濁部位を避けるように、信号光LSの照射位置を決定する。主制御部211は、決定された照射位置に向けて新たな信号光LSを照射する。演算制御装置200は、被検眼Eを経由した新たな信号光LSと、参照ミラー174を経由した新たな参照光LRとに基づく新たな干渉光LCの検出結果に基づいて眼底EfのOCT画像を形成する。【選択図】図6
請求項(抜粋):
低コヒーレンス光を信号光と参照光とに分割し、被検眼を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを重畳させて干渉光を生成する干渉光生成手段と、
前記生成された干渉光を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出結果に基づいて、前記被検眼における前記干渉光の強度分布を求める演算手段と、
前記求められた強度分布に基づいて、前記被検眼に対する前記信号光の照射位置を決定する決定手段と、
前記決定された照射位置に向けて照射された新たな信号光と前記参照物体を経由した新たな参照光とに基づく新たな干渉光の検出結果に基づいて、前記被検眼の画像を形成する画像形成手段と、
を備えることを特徴とする光画像計測装置。
IPC (3件):
A61B 3/12
, A61B 3/14
, G01N 21/17
FI (3件):
A61B3/12 E
, A61B3/14 A
, G01N21/17 625
Fターム (23件):
2G059AA05
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF01
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ02
, 2G059JJ05
, 2G059JJ07
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM09
, 2G059PP04
, 2G059PP06
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (2件)
-
眼科装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-015296
出願人:株式会社トプコン
-
眼科測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-099661
出願人:株式会社ニデック
前のページに戻る