特許
J-GLOBAL ID:200903073585596305
脱硝装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-339192
公開番号(公開出願番号):特開平10-176527
出願日: 1996年12月19日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】【課題】 脱硝装置の反応器内に流入する排気ガスの偏流とか乱流によるガス密度の不均一に起因する脱硝効果の低下を防止することができる脱硝装置を提供することを目的とする。【解決手段】 反応器1内部にハニカム状に構成された脱硝剤2を積層配置し、反応器1の側部から上方空間部15に排気ガスGを流入すると同時に還元剤を噴霧して接触還元法により窒素酸化物を除去するようにした装置において、請求項1により、上方空間部15にあって排気ガスの導入部と対向する部位に遮蔽板11を配設し、排気ガスが該遮蔽板11に衝突した際に後流渦を生成して整流する脱硝装置の構成にしてある。請求項2により、上方空間部15内の隅部に単数もしくは複数個の反射板12を固定し、排気ガスが上記反射板により空間部内を平面的に旋回して均一に分布,整流するようにした脱硝装置の構成にしてある。
請求項(抜粋):
密閉型の反応器内部にハニカム状に構成された触媒で成る脱硝剤を積層配置し、該反応器の側部から該反応器内の上方空間部に内燃機関の排気ガスを流入すると同時に該排気ガス中に還元剤を噴霧して、接触還元法に基づいて排気ガス中の窒素酸化物を除去し、排出部から放出するようにした脱硝装置において、上記反応器内の上方空間部にあって排気ガスの導入部と対向する部位に遮蔽板を配設し、流入する排気ガスが該遮蔽板に衝突した際に後流渦を生成して整流することを特徴とする脱硝装置。
IPC (6件):
F01N 3/24 ZAB
, B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/94
, F01N 3/08 ZAB
, F01N 3/28 ZAB
, F01N 3/28 301
FI (6件):
F01N 3/24 ZAB N
, F01N 3/08 ZAB B
, F01N 3/28 ZAB
, F01N 3/28 301 C
, B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 102 A
引用特許:
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