特許

J-GLOBAL ID：200903073606673909

露光方法及び装置

発明者： 萩原 恒幸 ,  宮井 恒夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-197026
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031016
出願日： 1998年07月13日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ等の基板を移動する際の走り面と投影光学系の像面とが平行でない場合であっても、その基板の表面をその像面に高精度に合わせ込んで露光を行う。【解決手段】 照明領域2に対してレチクルステージ4を介してレチクルRを移動するのに同期して、投影光学系PLによる露光領域3に対してXYステージ13を介してウエハWを移動する走査露光時に、多点AFセンサ19A,19BによってウエハWの表面のフォーカス位置を先読みして、オートフォーカス方式でウエハWの表面を投影光学系PLの像面に合わせ込む。露光時に、レーザ干渉計16Y等を用いてウエハWが載置される試料台11の姿勢の変化量を計測し、この計測結果に基づいて次に露光するウエハの試料台11の姿勢の目標値を設定する。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを複数枚の基板上の複数のショット領域に順次転写する露光方法において、前記各基板上の各ショット領域に対して前記マスクのパターンを転写する際にそれぞれ該基板を移動するためのステージの姿勢の変化量を計測し、該計測結果を姿勢変化の履歴として記憶しておき、次の露光対象の基板の各ショット領域に前記マスクのパターンを転写するために前記基板を移動する際に、前記姿勢変化の履歴に基づいて前記ステージの姿勢制御を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 526 A

Fターム (14件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB13 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC09 ,  5F046DC10