特許
J-GLOBAL ID:200903073610798171

ヘテロアロファネート基を含むTDIポリイソシアネート

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川原田 一穂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-130556
公開番号(公開出願番号):特開平10-067845
出願日: 1997年05月06日
公開日(公表日): 1998年03月10日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 均質反応性と低モノマー含量をもち、十分な熱安定性を示すアロファネート基を含む高反応性ポリイソシアネートの製造方法。【解決手段】 a)イソシアネート基を実質的に含まず、a1)直鎖脂肪族イソシアネート成分と、a2)1〜1.75の平均OH官能価をもつヒドロキシル基含有成分の反応生成物をベースとするジ及び/又はポリウレタン成分を、b)少なくとも90重量%の2,4及び/又は2,6-ジイソシアナトトルエンを含むイソシアネート成分と反応させ、NCO基対ウレタン基の比が3:1〜100:1のアロファネート基を形成する段階と、過剰の蒸留性イソシアネート成分b)を含量0.5%未満まで除去する段階を含む。
請求項(抜粋):
ヘテロアロファネート基と芳香族に結合したイソシアネート基を含むポリイソシアネートの製造方法であって、a)イソシアネート基を実質的に含まず、a1)直鎖脂肪族イソシアネート成分と、a2)1〜1.75の平均OH官能価をもつヒドロキシル基含有成分の反応生成物をベースとするジ及び/又はポリウレタン成分を、b)少なくとも90重量%の2,4及び/又は2,6-ジイソシアナトトルエンを含むイソシアネート成分と反応させ、NCO基対ウレタン基の比が3:1〜100:1のアロファネート基を形成する段階と、過剰の蒸留性イソシアネート成分b)を含量0.5%未満まで除去する段階を含む前記方法。
IPC (5件):
C08G 18/64 ,  C08G 18/22 ,  C08G 18/32 ,  C08G 18/83 ,  C09D175/04
FI (5件):
C08G 18/64 ,  C08G 18/22 ,  C08G 18/32 Z ,  C08G 18/83 ,  C09D175/04

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